Nanozuntzezko babes-maskara tolesgarria
Nanozuntzezko babes-maskara tolesgarria
Lehengai nagusia, egitura eta konposizioa:
Maskara (antzutasuna) Maskararen gorputzaz, sudur-klipak eta maskararen gerrikoz osatuta dago.Maskararen gorputza banatuta dago: gainazaleko geruza, iragazketa geruza, nano iragazketa geruza fina, beheko geruza, azala errespetatzen duen geruza, guztira bost geruza.
Maskararen gainazala, beheko geruza eta larruazaleko geruza errespetatzen duen polipropilenozko ehundu gabeko ehuna da, iragazketa-geruza polipropilenozko urtu-ihinztatutako ehundu gabeko ehuna da, nano iragazketa-geruza fina nanozuntzezko mintza da, sudur-klipa plastikozko material batez egina da, maskararen gerrikoa da. poliester eta spandex hariz egina.
Aplikazio:
Arau hau medikuntzako lan-ingurunean aplikatzen da, aireko partikulak iragazten ditu, tantak blokeatzen ditu, odola, gorputz-likidoak, jariaketak eta beste auto-xurgapen-iragazkia arnasketa medikoa.
Produktuen adierazle tekniko nagusiak:
Iragazte-eraginkortasuna
Gas-fluxua 85L/min denean, koipetsuak ez diren partikulen maskararen iragazketa-eraginkortasunak taulako baldintzak bete behar ditu.
| fitxa 1,Iragazte-eraginkortasun klase % | |
| Bat | ≥95 |
| bi | ≥99 |
| Hiru | ≥99,97 |
Aire-fluxuaren erresistentzia
85L/min-ko gas-fluxurako, maskararen inspirazio-erresistentzia ez da 343.2pa (35mmH2O) gainditu behar.
odol sintetikoa sartzea
Bota 2 ml odol sintetiko maskara 10,7 kpa-ko (80 mmHg) presioan.Maskararen barruan ez da infiltraziorik gertatu behar
Azaleko hezetasunaren erresistentzia
Maskararen kanpoko gainazaleko ur-maila ez da GB/ t4745-1997-n 3. maila baino txikiagoa izan behar
Adierazle mikrobiologikoa
Maskarak gb15979-2002-ko mikrobioen adierazleen baldintzak bete behar ditu, 2. taulan agertzen den moduan.
2. fitxa Maskararen indize mikrobiologikoa
| Bakterioen kolonia guztira CFU/G | coli taldea | pseudomonas aeruginosa | staphylococcus aureus | estreptokoko hemolitikoa | Onddoen kolonia guztira |
| ≤200 | antzeman ezina | antzeman ezina | antzeman ezina | antzeman ezina | ≤100 |
Hondar etileno oxidoa
Etileno oxidoz esterilizatutako maskaretarako, etileno oxidoaren hondarrak ez du 10 g/g baino gehiago izan behar.
suaren erresistentzia
Erabilitako materialak ez dira sukoiak izan behar.Ondoren erretzearen denborak ez du 5 segundo baino gehiago izan behar
Larruazaleko narritadura
Maskara materialaren lehen narritaduraren puntuazioa ez da gainditu behar
Esterilizazio metodoa:etileno oxidoaren esterilizazioa.Hondar etileno oxidoa (g/g) ≤10
Estandarra:GB19083-2010
